PICOSUN擁有30多年在芬蘭ALD反應器制造而得到的專業(yè)技術。Tuomo Suntola博士，于1974年發(fā)明了ALD技術，是PICOSUN董事會的成員。我們的首席技術官SVEN LINDFORS從1975年開始連續(xù)的設計ALD系統(tǒng)。綜合起來講，PICOSUN擁有了200多年的ALD經驗并貢獻了100多項ALD專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使PICOSUN成為ALD技術優(yōu)質的合作伙伴。
技術參數：
技術指標
SUNALE™ R系列技術特點
基本特點：
晶片尺寸 2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)
工藝溫度 Up to 500°C
反應室體積 小型、中型、大型
反應室材料 316 SS, Ti, Ni, Al (quartz)
前驅體 2-6 氣體 / 氣體 / 固體
基片裝載 氣體升降
尺寸：
尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)
重量 200 kg
工況：
電源 100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac
真空泵 30-80 m3/h
載氣 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm
壓縮空氣 4-5.5 bar 過壓
冷卻水 反應器不需要
排氣 為真空泵及源櫥柜配備
樣品裝載選項：
Picoloader™手動樣品裝載系統(tǒng)，帶一個預真空室和閘閥
主要特點：
特點
多功能的反應器設計
全套的服務